Aluminijski nitrid film prilagodljiv

Tanki filmovi s visokim performansama

Otključajte sljedeću razinu u vašim elektroničkim i optoelektronskim uređajima s našim naprednim aluminijskim nitridom (ALN) tankim filmovima. Kao funkcionalni materijal s izuzetnim svojstvima, naši ALN filmovi pružaju snažno rješenje za toplinsko upravljanje, električnu izolaciju i zaštitu površine. Specijalizirani smo za odlaganje visoke čistoće, prilagodljive ALN filmove na razne keramičke supstrate , omogućujući inovacije u najzahtjevnijim industrijama.

Pregled proizvoda

Tanki film aluminija nitrida (ALN) vrlo je svestran materijal poznat po jedinstvenoj kombinaciji visoke toplinske vodljivosti, izvrsne električne izolacije, visoke tvrdoće i superiorne otpornosti na koroziju. Ova svojstva čine ga neophodnom komponentom u modernoj mikroelektronici. Bilo da razvijate visokofrekventne mikrovalne uređaje, pojačala snage ili napredne senzore, naši ALN filmovi su dizajnirani kako bi poboljšali performanse, stabilnost i životni vijek vaših proizvoda, pružajući kritičnu prednost na konkurentnom tržištu.

Ključne značajke i prednosti

• Superiorna toplinska vodljivost: učinkovito raspršuje toplinu iz aktivnih komponenti, poboljšavajući performanse uređaja i sprečavanje termičkog kvara.
• Izvrsna električna izolacija: visoka dielektrična čvrstoća pruža snažnu električnu izolaciju, presudno za visokonaponske i visokofrekventne primjene.
• Izvanredna tvrdoća i izdržljivost: nudi zaštitni sloj koji se odupire nošenju, ogrebotinama i degradaciji okoliša, proširujući operativni život komponenti.
• Visoka otpornost na koroziju: kemijski stabilna i otporna na eroziju iz kiselina i alkalija, osiguravajući pouzdanost u teškim radnim okruženjima.
• Optička prozirnost: posjeduje dobra optička svojstva, što ga čini prikladnim za primjenu u optoelektroničkoj ambalaži , uključujući zaštitne premaze za leće i lasere.

Tehničke specifikacije

• Osnovni materijal: aluminij nitrid visoke čistoće (ALN)
• Metode taloženja: magnetron raspršivanje, fizičko taloženje pare (PVD)
• Prilagodljiva debljina: od 50 nanometara do nekoliko mikrometara, prilagođenih vašim specifičnim zahtjevima.
• Kompatibilnost supstrata: glinica (al₂o₃), silicij (SI), safir i drugi materijali na zahtjev.
• Toplinska vodljivost (film): obično 140-200 W/MK, ovisno o debljini i kvaliteti filma.
• Dielektrična čvrstoća: > 15 kV/mm
• Površinska hrapavost (RA): Može se kontrolirati na <5 nm radi zahtjevne primjene.

Scenariji prijave

Naši tanki filmovi ALN kritična su tehnologija koja omogućuje u različitim visokotehnološkim sektorima:

• Mikroelektronika: Koristi se kao izolacijski i toplinski rasprostranjeni sloj u visokofrekventnim mikrovalnim uređajima, pojačavačima snage i za naprednu keramičku IC ambalažu .
• Optoelectronics: Primjenjuju se kao zaštitni i funkcionalni premazi za optičke filmove, laserske aspekte velike snage i UV-LED.
• Senzori: tvori jezgru funkcionalnog ili zaštitnog sloja u senzorima tlaka visoke stabilnosti, temperaturnim senzorima i MEMS uređajima zbog njegove tvrdoće i kemijske inercije.
• RF i mikrovalna pećnica: služi kao idealan dielektrični sloj u komponentama za bežično RF pakiranje , osiguravajući integritet signala i toplinsku stabilnost.

Naš postupak prilagodbe

1. Analiza zahtjeva: Započinjemo s detaljnim savjetovanjem kako bismo razumjeli vašu aplikaciju, ciljeve izvedbe i specifikacije supstrata.
2. Dizajn filma: Naši inženjeri preporučuju optimalnu debljinu filma, metodu taloženja i parametre procesa kako bi ispunili svoje ciljeve.
3. Taloženje uzorka: Na vašim navedenim podlogama proizvodimo početne uzorke za procjenu i testiranje.
4. Provjera performansi: Uzorke testirate u svojoj aplikaciji. Radimo s vama kako bismo po potrebi pročistili svojstva filma.
5. Proizvodnja volumena: Nakon odobrenja, prelazimo na skalabilnu proizvodnju visokog volumena sa strogom kontrolom kvalitete.

Prednosti za vaše poslovanje

Integriranje naših ALN filmova omogućuje vam:

• Poboljšajte performanse proizvoda: postići veću gustoću snage i bolji integritet signala.
• Poboljšajte pouzdanost: povećajte životni vijek svojih komponenti s superiornom toplinskom i fizičkom zaštitom.
• Omogući minijaturizaciju: učinkovitije termičko upravljanje omogućava kompaktniji i integrirani dizajn.
• Ubrzajte inovaciju: iskoristite napredna svojstva ALN-a za razvoj proizvoda nove generacije.

Često postavljana pitanja (FAQ)

Koja je glavna prednost korištenja ALN filma preko drugih dielektrika?

Glavna prednost ALN filma je njegova jedinstvena kombinacija visoke toplinske vodljivosti i visokog električnog otpora. Za razliku od mnogih materijala koji su termički provodljivi ili električno izolirani, ALN se ističe u oba, što ga čini idealnim za upravljanje toplinom u elektroničkim komponentama.

Možete li ući u film ALN?

Da, možemo surađivati ​​s vama na postizanju ALN filmova s ​​uzorkom koristeći standardnu ​​fotolitografiju i procese jetkanja. Navedite svoje dizajnerske datoteke za detaljan pregled.

Koje je tipično vrijeme za prilagođeno taloženje filma?

Vrijeme olova varira ovisno o složenosti i volumenu. Prototipiranje i uzorci trajanja obično traju 2-4 tjedna. Osigurat ćemo detaljan raspored s vašim formalnim citatom.

Naručivanje i logistika

Model br.: 002
Vrste materijala: prvenstveno ALN film na podlogama glinice. Dostupni su i drugi materijali za podloge.
Tipovi keramike: Elektrotermalna keramika, visokofrekventna keramika, piezoelektrična keramika
Minimalna količina narudžbe (MOQ): 5 komada
Pakiranje: otpremljeno u sigurnoj, čistoj ambalaži kako bi se osigurao integritet filma.
Dostava: Globalne opcije putem oceana, zemljišta i zraka.
Uvjeti plaćanja: L/C, T/T, D/P
Incoterm: fob

Kontaktirajte nas danas kako biste započeli svoj prilagođeni ALN filmski projekt i potaknuli granice performansi.